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Os processos de deposi‡Æo química a partir da fase vapor (CVD) do diamante sÆo extremamente complexos. Devido a essa complexidade o desenvolvimento de reatores de CVD requer a utiliza‡Æo de modelagens computacionais adequados. Neste trabalho se encontra uma modelagem sofisticada de um reator CVD para crescimento de filmes de diamante e se desenvolve um protótipo de simulador computacional para ajudar na resolu‡Æo das equa‡äes diferenciais encontradas. Também há dados sobre as espécies químicas envolvidas. Finalmente apresenta-se uma série de resultados de simula‡äes.

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Graduado em Física pela Universidad de Costa Rica - UCR.Doutor em engenharia elétrica pela Universidade Estadual de Campinas - UNICAMPAtualmente é professor do IEDS da Universidade da Integra‡Æo Internacional da Lusofonia Afro-Brasileira (UNILAB). Ô o atual coordenador do Mestrado em Sociobiodiversidade e Tecnologias Sustentáveis - MASTS.

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