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Neste trabalho mostramos o estudo e a caracteriza‡Æo de diversos processos de deposi‡Æo química autocatalítica de níquel para aplica‡äes em microeletrônica e nanotecnologia. SÆo mostrados processos de deposi‡Æo química por diversas técnicas, bem como os resultados de análises de composi‡Æo química, rugosidade superficial e espessura de filmes de Níquel e ligas Níquel-Fósforo pelas técnicas de RBS, AFM, TRXFA. Também é mostrada a caracteriza‡Æo elétrica de capacitores MOS construídos com essa técnica de deposi‡Æo.

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Possui gradua‡Æo em Engenharia Elétrica pela Escola de Engenharia Mauá, mestrado e doutorado em MIcroeletrônica pela Universidade de SÆo Paulo. Atualmente é Pesquisador e Professor Titular da Universidade SÆo Judas Tadeu, sua principal linha de pesquisa atualmente é a Aprendizagem Ativa para gradua‡Æo em Engenharia.

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