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A litografia representa uma importante ferramenta para o desenvolvimento tecnológico de nano e micro sistemas eletromecânicos. Esses sistemas podem ter fun‡äes de sensores de posicionamento como acelerômetros e giroscópios, motores, sensores de pressÆo, etc. As técnicas de litografia estÆo cada vez mais diversificadas e precisas. Neste trabalho foram desenvolvidas duas técnicas de litografia do tipo bottom-up usando o Microscópio de For‡a Atômica (MFA). Na primeira técnica de nanofabrica‡Æo o padrÆo é transferido mecanicamente utilizando a sonda do MFA. Na segunda técnica de nanofabrica‡Æo uma nanomáscara de óxido de germânio é criada através da oxida‡Æo anódica local, também utilizando a sonda do MFA. Outro importante tema abordado neste trabalho é o problema da reversÆo da magnetiza‡Æo em sistemas com dimensäes finitas, tais como nanofios. A partir das duas técnicas de litografia desenvolvidas neste trabalho diversos nanofios magnéticos foram fabricados. A reversÆo da magnetiza‡Æo desses nanofios foi investigada e modelada a partir de medidas feitas com a técnica de magnetoresistência.

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Possui doutorado em Física pela Universidade Federal de Pernambuco (2009). Atualmente é professor universitário e pesquisador da Universidade Federal do Rio Grande do Norte. Tem experiência na área de Física, com ênfase em Materiais Magnéticos e Propriedades Magnéticas, atuando principalmente em spintrônica e caloritrônica.

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