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Auslegung und Optimierung von ebenen Mehrlagen-Stempeln bezüglich Biegestabilität, Flexibilität, Adhäsion zwischen den Schichten und Antihaftbeschichtung.

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Der Nanoimprint-Prozess aus einem Prägeschritt mit dem die Strukturen eines Stempels in eine dünne Polymerschicht übertragen werden. Damit die Strukturen jedoch übertragen werden muss es einen konformen Kontakt zwischen Stempel und Polymer geben. Diese Arbeit beschäftigt sich deshalb mit der Auslegung von Mehrlagen-Replikatstempeln, wie z.B. die Wahl der richtigen Materialeigenschaften und den Schichtdicken der einzelnen lagen, um einen möglichst flexiblen und stabilen Stempel zu erhalten. Besonders wird dabei auf Modelle für das berechnen der Eigenschaften dieser Stempel eingegangen. Im speziellen wird dabei auf das optimieren bezüglich Biegebelastung eingegangen, weshalb Begriffe wie die Biegestabilität, neutrale Ebene und Biegebelastung diskutiert werden. Zusätzlich zu den Modellen wird auch ein 2 Lagen Komponist-Stempel aus OrmoStamp (spezielles Replikationsmaterial) und PDMS (Elastomer) vorgestellt, mit dem die theoretischen Überlegungen experimentell nachgewiesen werden. Dieser Stempel wird dann bezüglich der Adhäsion zwischen den Lagen, Antihaftbeschichtung der strukturierten Schicht und Verbiegung durch den preparationsbedingten Schrumpf optimiert.

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