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Compósitos de Carbono/Carbono (C/C) sÆo amplamente utilizados em componentes termoestruturais, principalmente pelo setor aeroespacial. Entretanto, o carbono possui baixa resistência em ambientes ablativos, limitando sua aplica‡Æo em sistemas de prote‡Æo térmica. Este problema pode ser superado protegendo o compósito com camadas de passiva‡Æo a base de materiais cerâmicos de baixa eficiência catalítica em rea‡äes com oxigênio e nitrogênio em elevadas temperaturas. Neste contexto, este trabalho tem como objetivo principal a síntese de recobrimentos espessos com gradiente composicional entre SiO2/SiC depositados sobre compósitos C/C utilizando um novo processo chamado High Velocity Solution Plasma Spray (HVSPS). Estes recobrimentos sÆo formados a partir de rea‡äes entre o compósito C/C e a solu‡Æo coloidal de Si(OH)4 aspergida por jato de plasma supersônico gerado por uma tocha de corrente contínua. A tocha de plasma possui uma concep‡Æo distinta das tochas convencionais, elevando o tempo de intera‡Æo com regiäes de plasma em elevadas temperaturas.

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