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La technique SIPS (Sputter Induced Photon Spectroscopy) est utilisée pour l analyse des émissions optiques issues de la désexcitation des produits pulvérisés des surfaces sous l action des Kr+ de 5 keV. Les expériences sont menées sous vide (10-7 torr) et sous une atmosphère d oxygène (5.10-6 et 10-5 torr) sur le fer massif et poudre et le chrome poudre et puis sous vide sur leurs oxydes : l hématite Fe2O3, la magnétite Fe3O4 et l eskolaite Cr2O3. Les spectres observés présentent des séries de raies fines, toutes identifiées à des transitions entre les niveaux des atomes neutres de Fe respectivement de Cr. Les raies montrent une augmentation d intensité dans le cas des métaux oxygéné. Cette intensification suggère la formation d une couche d oxyde sur la surface du métal caractérisée par une nouvelle structure de bandes. Le modèle d échange d électron entre l atome pulvérisée dans un état excité et les niveaux électroniques du métal permet de bien expliquer le comportement des raies observées et de suggérer des valeurs d énergie pour le gap et l affinité électronique des couches d oxyde formées sur le fer et sur le chrome ainsi que pour leurs oxydes respectifs.

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