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Este estudo teve como objetivo a obten‡Æo e caracteriza‡Æo de filmes finos de diamante nano/ultrananocristalinos dopados com boro visando a aplica‡Æo deste material num futuro próximo na área eletroquímica, utilizando os eletrodos de nanodiamante dopados na degrada‡Æo de compostos inorgânicos. Os filmes foram obtidos pela técnica HFCVD (Hot Filament Chemical Vapor Deposition), utilizando como fonte de dopante uma solu‡Æo de óxido de boro em metanol. A princípio, na primeira série de experimentos variaram-se os níveis de dopagem com boro em 2.000, 5.000, 10.000, 20.000 e 30.000 ppm e tempos de crescimento do filme em 6, 10 e 16 h. Posteriormente, na segunda série de experimentos variou-se o percentual de argônio em rela‡Æo ao hidrogênio na mistura gasosa, em 50, 60, 70, 80 e 85 %. Foram feitas análises morfológicas, estruturais e eletroquímicas, visando estudos fundamentais dos filmes obtidos.

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Fernando Almeida de Souza, atuou como pesquisador colaborador no Instituto de Estudos Avan‡ados-IEAv da For‡a Aérea Brasileira. É Mestre em Engenharia de Tecnologias Espaciais/Engenharia de Materiais e Sensores, formado pelo Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais-INPE e graduado em Eng. Mecânica.

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