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Neuerscheinungen 2015

Stand: 2020-02-01
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Thiago José de Almeida Mori

Crescimento de filmes finos de NiFe por "magnetron sputtering"


Nanoestruturas para aplica‡äes envolvendo magnetorresistência anisotrópica
2015. 92 S. 220 mm
Verlag/Jahr: NOVAS EDICIOES ACADEMICAS 2015
ISBN: 3-639-74632-5 (3639746325)
Neue ISBN: 978-3-639-74632-7 (9783639746327)

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Sensores baseados em magnetorresistência anisotrópica sÆo promissores para medidas de posi‡Æo tanto angulares quanto lineares. Estes dispositivos normalmente possuem a estrutura Ta/NiFe/Ta com a espessura da camada de NiFe sendo da ordem de 10 nm. Neste trabalho, propomos verificar se é possível aumentar a varia‡Æo percentual da resistência e a sensibilidade, para estruturas com boa estabilidade térmica, simplesmente acrescentando uma etapa de oxida‡Æo após o crescimento de cada camada. Estudamos a influência dos parâmetros de deposi‡Æo nas propriedades estruturais e magnéticas das amostras e otimizamos o crescimento de filmes finos de NiFe pela técnica de "magnetron sputtering". Verificamos a influência do tratamento térmico nas propriedades estruturais de nanoestruturas do tipo Ta/NiFe/Ta submetidas, ou nÆo, à oxida‡Æo das interfaces. Observamos que a nanocamada de óxido de tântalo pode desempenhar o papel esperado, todavia, a qualidade cristalina das camadas de NiFe gera valores quantitativos de magnetorresistência menores que os encontrados na literatura.
Thiago possui os títulos de Doutor, Mestre e Bacharel em Física pela Universidade Federal de Santa Maria (UFSM), e Técnico em Automa‡Æo Industrial pelo Colégio Técnico Industrial de Santa Maria (CTISM/UFSM). Realizou estágio de doutorado no Trinity College Dublin, na Irlanda. Também possui gradua‡Æo interrompida em Química Industrial.