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Nishantha Sampa Punchi Hewage
Promoting a Second-Tier Protection Regime for Innovation of Small and Medium-Sized Enterprises in South Asia
The Case of Sri Lanka
2015. 331 p. 23 cm
Verlag/Jahr: NOMOS 2015
ISBN: 3-8487-1885-5 (3848718855)
Neue ISBN: 978-3-8487-1885-6 (9783848718856)
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Der Begriff des Gebrauchsmusters ist in Sri Lanka und in anderen Teilen Südasiens eine noch weitgehend unerforschte Option, um einen Anreiz für Innovationen von KMU zu schaffen.
Der Autor untersucht, ob diese Länder von einer Second-Tier-Patent (STP) Regelung, die auf die spezifischen Merkmale der Innovationslandschaft des Landes zugeschnitten ist, profitieren könnten.