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Diamante dopado com boro (BDD) é um semicondutor do tipo p com propriedades únicas e aplica‡äes na mecânica, eletrônica, eletroquímica e biomedicina. Considerando as aplica‡äes do BDD é fundamental entender o mecanismo de incorpora‡Æo do boro na estrutura do diamante para o aperfei‡oamento da produ‡Æo desse material. Neste trabalho, foram estudados os efeitos da incorpora‡Æo de CH4 e Ar na incorpora‡Æo de boro em filmes de diamante micro e nano-cristalino crescido pelo método CVD. As amostras foram analisadas por Microscopia Eletrônica de Varredura, Espectroscopia Raman e Difra‡Æo de Raios X, Mott Schottky Plot e, especialmente, Espectroscopia de Fotoelétrons Excitados por Raios X (XPS). As medidas de XPS foram realizadas em dois modos de varredura distintos e mostraram resultados importantes sobre a incorpora‡Æo de boro em BDD. O livro ainda apresenta uma ampla revisÆo bibliográfica sobre o crescimento e dopagem de diamante CVD e as técnicas de caracteriza‡Æo utilizadas. Este trabalho é fundamental para pesquisadores da área de Engenharia de Materiais especialmente para aqueles envolvidos com a produ‡Æo, caracteriza‡Æo e aplica‡Æo de BDD.

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A autora é graduada em Licenciatura em Física pelo IFNMG (2014) e mestre em Engenharia e Tecnologia Espaciais pelo INPE (2016) atuando na produ‡Æo e caracteriza‡Æo de filmes de diamante dopado com boro. Atualmente, cursa o doutorado em Física na UNESP onde tem trabalhado na produ‡Æo e caracteriza‡Æo de nanoestruturas de óxidos de Sn e Sb.

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